Патент на изобретение №2231053

Published by on




РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ



ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА
ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ,
ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ
(19) RU (11) 2231053 (13) C1
(51) МПК 7
G01N27/02
(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К ПАТЕНТУ

Статус: по данным на 25.02.2011 – прекратил действие

(21), (22) Заявка: 2002128973/28, 29.10.2002

(24) Дата начала отсчета срока действия патента:

29.10.2002

(45) Опубликовано: 20.06.2004

(56) Список документов, цитированных в отчете о
поиске:
RU 2073853 С1, 20.02.1997. RU 2175127 С1, 20.10.2001. RU 2184957 С1, 10.07.2002. US 4822464 А, 18.04.1989.

Адрес для переписки:

160035, г.Вологда, ул. Ленина, 15, ВоГТУ

(72) Автор(ы):

Федоров М.И. (RU),
Бабкин А.Н. (RU)

(73) Патентообладатель(и):

Вологодский государственный технический университет (RU)

(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ДАТЧИКА ДЛЯ АНАЛИЗА СЕРОВОДОРОДА В ГАЗОВОЙ СРЕДЕ

(57) Реферат:

Изобретение относится к полупроводниковой сенсорной технике. Технический результат изобретения – снижение рабочей температуры датчика, упрощение технологии изготовления. Сущность: способ включает напыление газочувствительного слоя фталоцианина меди на монокристаллическую пластинку из арсенида галлия и его легирование кислородом в низком вакууме. В результате чего получают датчик на основе гетероперехода n-GaAs/p-CuPc. 2 ил.

Изобретение относится к полупроводниковой сенсорной технике и может быть использовано для изготовления недорогих и простых в изготовлении датчиков для определения концентрации сероводорода в газовой среде.

Известен способ использования ячейки сэндвич на основе окисла полупроводника, нанесенного на электрод из Аu, для определения концентрации газа (J.Appl/ Phys/ 2001, 90, № 4, с.1883-1886). Недостатками датчика, полученного этим способом, являются сложность в измерении емкости датчика и обязательное использование при этом высоких температур до 200С.

Известен способ изготовления датчика газа Н2S на основе SnO2, легированного ZrO2 (H2S gas detection by ZrO2 dopped SnO22 и SnO2. Рабочая температура датчика 175С.

Недостатками датчика, полученного этим способом, являются использование дорогостоящих материалов SnO2, ZrO2 и высокая рабочая температура.

Известен способ изготовления тонкопленочного датчика газа (патент RU 2172951, кл. G 01 N 27/12, 2001), принятый за прототип, который заключается в следующем.

На ситалловую подложку с растровыми электродами в вакууме наносится термической возгонкой тонкий слой (20 нм) СuРс, очищенного химическими методами. После напыления слой СuРс подвергается легированию кислородом в низком вакууме.

Недостатками датчика, полученного этим способом, являются сложность изготовления и высокая рабочая температура (150С).

Изобретение направлено на снижение рабочей температуры датчика, упрощение технологии изготовления.

Способ изготовления датчика для анализа сероводорода в газовой среде включает нанесение газочувствительного слоя фталоцианина меди на монокристаллическую пластинку из арсенида галлия, легирование кислородом в низком вакууме. Датчик выполнен на основе гетероперехода n-GaAs/p-CuPc, причем на n-область подается положительный потенциал.

На фиг.1 изображен полупроводниковый датчик газа сероводорода, где 1 – верхний пористый электрод; 2 – слой фталоцианина меди; 3 – монокристаллическая пластинка из арсенида галлия; 4 – нижний омический электрод. На фиг.2 представлена зависимость отношения сопротивления датчика в газовой среде к сопротивлению датчика в воздухе Rг/R0 от концентрации сероводорода С, при интенсивности излучения E=3 Вт/м2.

Предлагаемый способ изготовления датчика газа заключается в следующем.

На монокристаллическую пластинку из GaAs (3), легированную оловом, которая играет роль донора, после травления ее в растворе H2O2:NH4OH:H2O (1:1:3), в вакууме (не хуже 10-3 Па) напыляется нижний омический электрод из соединения Ge+Au (4). Затем на противоположную поверхность этой пластинки в том же вакууме при температуре 343 К напыляется тонкий слой (менее 20 нм) СuРс, очищенного только химическими методами. Испарение вещества происходит при температуре 700С из кварцевого тигля, расположенного на расстоянии 5 см от подложки (пластина n-GaAs). Т.к. слой СuРс (2), полученный из химически очищенного вещества, обладает проводимостью n-типа, он подвергается легированию кислородом воздуха при низком вакууме, при этом слой СuРс становится областью проводимости р-типа. На легированный слой СuРс напыляется верхний пористый электрод из серебра (1). Серебряный электрод создает хороший омический контакт с пленкой СuРс в отличие от других металлов, таких как Аl, Сu. Пористым электрод должен быть с целью проникновения через поры молекул газа H2S. Сплав Ge+Au создает очень хороший омический контакт с монокристаллической пластинкой n-GaAs в отличие от других материалов.

На границе n-GaAs и р-СuРс создается анизотипный гетеропереход, чувствительный к молекулам газа Н2S.

Молекулы газа, прошедшие через пористый электрод из Ag, воздействуют на сопротивление барьера, т.к. толщина пленки СuРс совпадает с толщиной барьера в этом слое (примерно 17 нм). Молекулы H2S отдают электроны и взаимодействуют с дырками в слое СuРс, концентрация последних уменьшается, при этом сопротивление возрастает. Для определения зависимости сопротивления перехода от концентрации газа к датчику подводится обратное напряжение, т.е. на n-область подается положительный потенциал. Это необходимо, т.к. при обратном смещении в токе участвуют неосновные носители заряда барьера гетероперехода. В то же время датчик, основанный на гетеропереходе, при обратном смещении обладает более высокой стабильностью, чем при прямом смещении. Датчик может работать как на темновом токе, так и при небольших интенсивностях излучения, при этом фототок больший, чем темновой, при данном напряжении.

Испытания датчика проводились при температуре t=22C, обратном смещении U=0,4 В и интенсивности излучения E=3 Вт/м2.

Изготовление датчика сероводорода предлагаемым способом позволяет уменьшить рабочую температуру до 20С и упростить процесс изготовления датчика.

Формула изобретения

Способ изготовления датчика для анализа сероводорода в газовой среде, включающий напыление пленки фталоцианина меди (CuPc), отличающийся тем, что датчик выполнен на основе гетероперехода n-GaAs/p-CuPc путем напыления CuPc на монокристаллическую пластинку GaAs n-типа с последующим легированием пленки CuPc кислородом при низком вакууме для получения CuPc р-типа.

РИСУНКИ

Рисунок 1, Рисунок 2


MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе

Дата прекращения действия патента: 30.10.2004

Извещение опубликовано: 10.06.2006 БИ: 16/2006


Categories: BD_2231000-2231999