Патент на изобретение №2231052
|
||||||||||||||||||||||||||
(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНОГО ДАТЧИКА ДЛЯ ОПРЕДЕЛЕНИЯ КОНЦЕНТРАЦИИ МЕТАНА В ГАЗОВОЙ СРЕДЕ
(57) Реферат: Изобретение относится к полупроводниковой сенсорной технике. Технический результат изобретения – упрощение технологии изготовления датчика газа и снижение его стоимости. Сущность: на ситалловую подложку с растровыми электродами из антикоррозийного сплава наносится газочувствительный слой химически очищенного фталоцианина магния толщиной не более 15 нм, который подвергается технологической активации и легированию кислородом воздуха. 1 табл., 3 ил. Изобретение относится к полупроводниковой сенсорной технике и может быть использовано для изготовления недорогих и простых в изготовлении датчиков для определения концентрации метана в газовой среде. Известен способ изготовления тонкопленочного датчика для анализа газовой среды (патент PL 137250, кл. G 01 N 27/00, 1989), который включает нанесение газочувствительного слоя на подложку с электродами и технологическую активацию этого слоя. К недостаткам датчика, полученного данным способом, относятся низкая чувствительность (18 мг/м3), большое время регенереции (15 мин), высокая рабочая температура (150 С) и сложность технологии изготовления (многократный – 11 циклов прогрев газочувствительного слоя).
Известен способ изготовления тонкопленочного датчика для анализа аммиака в газовой среде (патент RU 2172951, кл. G 01 N 27/12, 2001), принятый за прототип, который заключается в следующем.
На ситалловую подложку с растровыми электродами в вакууме наносится термической возгонкой тонкий слой (20 нм) фталоцианина меди, очищенного химическими методами. Температура подложки в процессе конденсации фталоцианина меди из газовой фазы поддерживалась 195-205 С. После напыления слой фталоцианина меди подвергался легированию кислородом в низком вакууме.
Однако в полученном по такому способу тонкопленочном датчике для газового анализа в процессе эксплуатации выявлены следующие недостатки:
1. Большая площадь датчика – 6,25 см2 (25 25 мм).
2. Высокая рабочая температура – 95 С.
3. Высокое рабочее напряжение – до 36 В.
4. Необходимость регенерации датчика (прогрев до 135 С в течение 4-5 минут).
Изобретение направлено на упрощение технологии изготовления датчика газа и снижения его стоимости.
Это достигается тем, что на ситалловую подложку с растровыми электродами из антикоррозийного сплава наносится газочувствительный слой химически очищенного органического полупроводника толщиной не более 15 нм, который подвергается технохимической активации и легированию кислородом воздуха. В качестве органического полупроводника использован MgPc.
На фиг.1 изображен полупроводниковый датчик газа метана, где 1 – растровые электроды; 2 – слой фталоцианина магния; 3 – ситалловая подложка. На фиг.2 показана зависимость чувствительности (Rг/R0) датчика от концентрации метана. На фиг.3 изображена зависимость десятичного логарифма чувствительности датчика от концентрации метана.
Предлагаемый способ изготовления тонкопленочного датчика для анализа метана в газовой среде заключается в следующем:
1. На ситалловую подложку (фиг.1, поз.3) с растровыми электродами из антикоррозийного сплава (фиг.1, поз.1), нагретую до 200 С в вакууме 10-3 Па, наносится термической возгонкой тонкий слой (15 нм) фталоцианина магния (фиг.1, поз.2), очищенного химическими методами.
2. Легирование слоя MgPc кислородом воздуха.
Новым в предлагаемом способе по сравнению с прототипом является:
1. использование в качестве газочувствительного слоя органического полупроводника MgPc оптимальном толщины не более 15 нм;
2. площадь ситалловой подложки уменьшена до 1 см2 благодаря использованию органического полупроводника фталоцианина магния (MgPc), обладающего проводимостью =10-7 Ом-1·м-1, что на два порядка выше, чем у фталоцианина меди ( =2·10-10 Ом-1·м-1);
3. легирование кислородом воздуха.
Изготовление тонкопленочного датчика для анализа метана в газовой среде предлагаемым способом позволило получить чувствительность измерения концентрации (С) метана 0,05% в объеме воздуха и линейную зависимость IgRг/Rо от концентрации (фиг.2), сократить расход органического полупроводника на изготовление, упростить технологию изготовления датчика и улучшить технические характеристики.
Испытания тонкопленочных датчиков для измерения концентрации метана в газовой среде проводились при t=50 C и напряжении 5 В. Измеряли зависимость показаний датчика от концентрации аммиака в пределах 0,05-0,5% в объеме воздуха. Зависимость сопротивления датчика от концентрации газа метана представлена на фиг.3. Для возврата сопротивления не требуется дополнительного прогрева и времени. Датчики обладают высокой стабильностью параметров. Погрешность в измерении первоначального сопротивления составила не более 1%.
В таблице представлено сопоставление характеристик заявленного способа и прототипа.
Формула изобретения Способ изготовления тонкопленочного датчика для определения концентрации метана в газовой среде, включающий нанесение газочувствительного слоя химически очищенного органического полупроводника на ситалловую подложку с растровыми электродами из антикоррозийного сплава, технохимическую активацию этого слоя и прогрев газочувствительного слоя, отличающийся тем, что на ситалловую подложку площадью 1 см2 наносят слой органического полупроводника фталоцианина магния, толщиной не более 15 нм, который затем подвергается легированию кислородом воздуха. РИСУНКИ
MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе
Дата прекращения действия патента: 08.10.2004
Извещение опубликовано: 10.06.2006 БИ: 16/2006
|
||||||||||||||||||||||||||

С) и сложность технологии изготовления (многократный – 11 циклов прогрев газочувствительного слоя).
Известен способ изготовления тонкопленочного датчика для анализа аммиака в газовой среде (патент RU 2172951, кл. G 01 N 27/12, 2001), принятый за прототип, который заключается в следующем.
На ситалловую подложку с растровыми электродами в вакууме наносится термической возгонкой тонкий слой (20 нм) фталоцианина меди, очищенного химическими методами. Температура подложки в процессе конденсации фталоцианина меди из газовой фазы поддерживалась 195-205
25 мм).
2. Высокая рабочая температура – 95
=10-7 Ом-1·м-1, что на два порядка выше, чем у фталоцианина меди (