Патент на изобретение №2202006

Published by on




РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ



ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА
ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ,
ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ
(19) RU (11) 2202006 (13) C2
(51) МПК 7
C25D3/50, C25D5/18
(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К ПАТЕНТУ

Статус: по данным на 07.04.2011 – может прекратить свое действие

(21), (22) Заявка: 2001112235/02, 04.05.2001

(24) Дата начала отсчета срока действия патента:

04.05.2001

(45) Опубликовано: 10.04.2003

(56) Список документов, цитированных в отчете о
поиске:
US 3576724, 27.04.1971. US 4082622, 04.04.1978. SU 377431, 20.06.1973. SU 316752, 22.12.1971.

Адрес для переписки:

390027, г.Рязань, ул. Новая, 55, ОАО “РЗМКП”, гл. инженеру И.А. Баскакову

(71) Заявитель(и):

ОАО “Рязанский завод металлокерамических приборов”

(72) Автор(ы):

Карабанов С.М.,
Быков А.Н.,
Локштанова О.Г.,
Рябко С.М.,
Родимов В.А.,
Шишкина Л.В.

(73) Патентообладатель(и):

ОАО “Рязанский завод металлокерамических приборов”

(54) СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ РУТЕНИЕВОГО ПОКРЫТИЯ


(57) Реферат:

Изобретение относится к гальванотехнике и может быть использовано в производстве электрических контактов, в том числе герметизированных. Технический результат состоит в получении электролитическим методом низкопористых, менее напряженных рутениевых покрытий, имеющих улучшенные коммутационные свойства при толщине менее 0,5 мкм и получении рутениевых покрытий без трещин при толщине более 1,5 мкм. Способ заключается в электролитическом осаждении рутениевых покрытий из электролитов, получаемых путем растворения биядерного нитридо-аква-хлоридного комплекса рутения, при этом электролиз проводят в режиме импульсного тока с параметрами: период 1 мс, скважность 10%, средняя во времени катодная плотность тока 0,58,0 А/дм2. 2 табл.


Изобретение относится к гальванотехнике, в частности касается электролитического осаждения рутения на рабочие поверхности электрических контактов, например на контакт-детали герконов, которые используются в качестве коммутационных элементов в различных системах электронной техники.

Известен способ [1] электролитического рутенирования из электролита, в который рутений вводится в виде аммонийной соли биядерного нитридо-аква-хлоридного комплекса [Ru2N(Н2O)хСlу](NН4)3, где х+у=10.

Указанный электролит имеет рН 0,54, содержит 520 г/л рутения, 1050 г/л сульфаминовой кислоты. Электролиз ведется в условиях постоянного тока при плотности тока 0,2510 А/дм2 и при температуре 5075oС.

Недостатком этого способа является относительно высокая пористость гальванических рутениевых покрытий, особенно при толщинах менее 0,5 мкм, что ухудшает их контактные свойства.

Гальванические покрытия, получаемые в условиях стационарного тока из приведенного электролита, являются сильно напряженными, что приводит к образованию микротрещин при толщине рутениевого покрытия более 1,5 мкм.

Предложен способ электролитического осаждения рутениевых покрытий из электролитов, получаемых путем растворения биядерного нитридо-аква-хлоридного комплекса рутения, отличающийся тем, что электролиз проводят в режиме импульсного тока с параметрами: период 1 мс, скважность 10%, средняя (во времени) катодная плотность тока 0,58,0 А/дм2.

Предлагаемый способ позволяет получать низкопористые рутениевые покрытия при толщинах менее 0,5 мкм с улучшенными коммутационными характеристиками рутениевых покрытий и без микротрещин при толщине более 1,5 мкм.

Предложенный режим был опробован в электролите, содержащем:
Рутений (мет.) – 1025 г/л
Сульфамат аммония – 3090 г/л
рН – 1,02,0
Рутений вводился в виде аммонийной соли биядерного нитридо-аква-хлоридного комплекса [Ru2N(H2O)2Cl8](NH4)3.

Условия электролиза:
температура 5070oС;
средняя (во времени) катодная плотность тока 0,58,0 А/дм2.

В указанном электролите на детали герконов, изготовленных из пермаллоя, наносились контактные покрытия.

В процессе экспериментов на источнике импульсного тока устанавливались определенные значения Т (периода) и скважности (отношение времени импульса к периоду)%, а также варьировалась средняя плотность тока (во времени) и толщина покрытия.

Были изготовлены опытные партии миниатюрных малой мощности герконов с толщиной рутения 0,2 мкм с подслоем золота толщиной 0,5 мкм. Рутений наносился в различных режимах импульсного тока. Для сравнения некоторые образцы покрывались в стационарном режиме (по прототипу [1]), Пористость электролитических покрытий оценивалась приборным методом – по потенциалу коррозии в растворе HCl 1:1. Чем более положительные значения потенциала коррозии, тем меньше пористость.

Покрытие в герконах проходило испытания на уровень и стабильность переходного электросопротивления Rпep и на износостойкость (по количеству срабатываний в коммутационных режимах:
1. – ток 5 мкА, напряжение 50 мВ, частота 100 Гц;
2. – ток 90 мА, напряжение 12 В, частота 100 Гц).

Полученные результаты представлены в табл.1.

Для герконов средней и более высокой мощности необходимо применение толщин рутениевого покрытия более 1,5 мкм по подслою золота толщиной 1,0 мкм. При таких толщинах рутениевые покрытия склонны образовывать микротрещины. В зависимости от режима нанесения предельные толщины рутениевого покрытия, при которых начинают зарождаться микротрещины, бывают различными.

Данные по опробованию режима электролиза на образование микротрещин в рутениевом покрытии представлены в табл.2.

С помощью подбора режима импульсного тока была определена предельно допустимая толщина рутениевого покрытия без микротрещин – 2,5 мкм, по сравнению с прототипом [1] – 1,5 мкм.

На основании проведенных экспериментов (табл. 1 и 2) был выбран оптимальный импульсный режим электролиза: Дк=0,5-8,0 А/дм2, Т=1 мс, скважность 10%. Увеличение периода импульсного тока с 1 до 2 мс и увеличение скважности с 10 до 20% приводит к резкому ухудшению рассмотренных параметров электролитического покрытия,
Источник информации
1. Патент США 3576724, апрель 27, 1971 г.

Формула изобретения


Способ электролитического осаждения рутениевых покрытий из электролитов, получаемых путем растворения биядерного нитридо-аквахлоридного комплекса рутения, отличающийся тем, что электролиз проводят в режиме импульсного тока с параметрами: период 1 мс, скважность 10%, средняя во времени катодная плотность тока 0,58,0 А/дм2.

РИСУНКИ

Рисунок 1

Categories: BD_2202000-2202999