Патент на изобретение №2198630
|
||||||||||||||||||||||||||
(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭЛАСТИЧНЫХ ИСКУССТВЕННЫХ ХРУСТАЛИКОВ ГЛАЗА
(57) Реферат: Изобретение относится к области медицины. Способ изготовления эластичных искусственных хрусталиков глаза заключается в том, что в литьевую форму, состоящую из верхней и нижней половинок, заливают жидкий фотоотвержденный материал для изготовления эластичного хрусталика, облучают ультрафиолетовым светом, удаляют неотвержденный фотоматериал путем растворения в подходящем растворителе, производят отжиг, помещают хрусталик в изопропиловый спирт и производят сушку, отличается тем, что перед наложением верхней половинки формы на нижнюю половинку формы заливают жидкий светочувствительный материал состава: 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон 0,34 мас.%, 2,4-дитрет-бутилортохинон 0,0044 мас.%, олигокарбонатметакрилат 99,6556 мас.%, с образованием верхнего мениска, накрывают фотошаблоном, обработанным веществом, уменьшающим адгезию к нему полимерного материала, например природным воском, имеющим прозрачные и не прозрачные для УФ-света участки, соответствующие плоскому изображению гаптических элементов хрусталика, проксимальные концы которых при их совмещении с оптической частью входят в нее на расстояние 1 мм от ее края, облучают со стороны фотошаблона по всей поверхности от внешнего источника УФ-света с длиной волны 320-380 нм в течение времени, оптимальном для воспроизведения заданных геометрических размеров гаптической части хрусталика, отделяют фотошаблон, полностью удаляют незаполимеризованный светочувствительный материал путем проявления в подходящем растворителе, например изопропиловом спирте, и сушат до полного удаления растворителя. Способ позволяет изготовить эластичный, с ровными краями хрусталик, обеспечивающий уменьшение травматичности тканей глаза. 8 ил., 2 табл. Изобретение относится к медицине, в частности к офтальмологии, а более точно к способу изготовления искусственного хрусталика глаза. Часто требуется, чтобы искусственный хрусталик глаза имел гаптическую и оптическую части, обладающие разной эластичностью. Известен способ изготовления искусственного хрусталика глаза (заявка РФ на патент 2132662) с гаптическими элементами, выполненными из полимерного волокна, например полипропилена. Однако полученный указанным способом хрусталик не обладает достаточной надежностью фиксации гаптических элементов в толще оптической части и, кроме этого, используемое для гаптической части полимерное волокно не имеет достаточной устойчивости к действию биологически активных жидкостей (камерной влаге глаза) и вызывает токсикологическую реакцию со стороны окружающих тканей. Известен способ изготовления искусственных хрусталиков глаза (см. , например, патент РФ 2129846, взятый за прототип), по которому оптическая и гаптическая части хрусталика выполнены из эластичного материала. Гаптическая часть полученного данным способом хрусталика не обладает достаточной надежностью фиксации, вызывает смещение хрусталика в капсульной сумке, что приводит к повышенной травматичности тканей глаза и к необходимости очковой коррекции зрения у пациента, получить данным способом хрусталик, сочетающий в своей конструкции элементы с разной эластичностью, не представляется возможным. Технической задачей, решаемой изобретением, является разработка способа, позволяющего изготавливать хрусталик глаза, имеющий оптическую и гаптическую части различной эластичности, с повышенной прочностью и упругостью, способный при имплантации без деформации сворачиваться в трубочку и восстанавливать свою форму после снятия нагрузки или имплантироваться без сворачивания, не изменяющий своего расположения в капсульной сумке в процессе эксплуатации, а также имеющий ровные края без облоя, что позволяет уменьшить травматичность тканей глаза, обеспечивающий ареактивное течение постоперационного периода. Указанная техническая задача решается тем, что в способе изготовления эластичного хрусталика глаза, заключающемся в том, что в литьевую форму, состоящую из верхней и нижней половинок, заливают жидкий фотоотверждаемый материал для изготовления эластичного хрусталика, облучают ультрафиолетовым светом, удаляют неотвержденный фотоматериал путем растворения в подходящем растворителе, производят отжиг, помещают хрусталик в изопропиловый спирт и производят сушку, отличающийся тем, что перед наложением верхней половинки формы на нижнюю половинку формы заливают жидкий светочувствительный материал состава: 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон – 0,34 мас.% строения: ![]() 2,4-дитрет-бутилортохинон – 0,0044 мас.% строения: ![]() олигокарбонатметакрилат – 99,6556 мас.% строения: СН2=С(СН3)-С(О)О(СН2)2-О-С(О)-О-(СН2)2-О-(СН2)2-О-С(О)-О-(СН2)2-О-С(О)-С(СН3)=СН2 с образованием верхнего мениска, накрывают фотошаблоном, обработанным веществом, уменьшающим адгезию к нему полимерного материала, например природным воском, имеющим прозрачные и не прозрачные для УФ-света участки, соответствующие плоскому изображению гаптических элементов хрусталика, проксимальные концы которых при их совмещении с оптической частью половинки литьевой формы входят в нее на 1 мм от ее края, облучают со стороны фотошаблона по всей поверхности от внешнего источника УФ-света с длиной волны 320-380 нм в течение времени, оптимальном для воспроизведения заданных геометрических размеров гаптической части хрусталика, отделяют фотошаблон, полностью удаляют незаполимеризованный светочувствительный материал путем проявления в подходящем растворителе, например изопропиловом спирте, и сушат до полного удаления растворителя. Способ изготовления ИОЛ осуществляется следующим образом. Для изготовления искусственных хрусталиков глаза используют литьевую форму, состоящую из двух половинок, выполненных из оптически прозрачного материала, например кварца, и кольцеобразную прокладку, толщина которой равна толщине опорной части хрусталика (фиг.1). Половинки литьевой формы выполняют в виде цилиндров с оптически полированными торцевыми поверхностями, на внутренних поверхностях которых в центральной части имеются углубления, которые при соединении двух половинок литьевой формы образуют оптическую часть хрусталика (фиг.1). На внутренней поверхности половинок формы выполнен рисунок, содержащий прозрачные и не прозрачные для УФ-света участки, например, из хрома, негативное изображение которого соответствует плоскому изображению оптической части хрусталика (фиг.2). На нижней половинке формы устанавливают кольцеобразную прокладку, далее заливают в нее светочувствиетльный материал состава: 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон – 0,34 мас.%, 2,4-дитретбутилортохинон – 0,0044 мас.%, олигокарбонатметакрилат – 99,6556 мас. % с образованием верхнего мениска (фиг.3), накрывают фотошаблоном, обработанным веществом, например природным воском, уменьшающим адгезию к нему полимерного материала, имеющим прозрачные и не прозрачные для УФ-света участки, соответствующие плоскому изображению гаптических элементов хрусталика, проксимальные концы которых при их совмещении с оптической частью половинки литьевой формы входят в нее на 1 мм от ее края (фиг.4) и плотно прижимают фотошаблон к нижней половинке формы (фиг.5). Полученную конструкцию облучают УФ-светом от источника света (ртутно-кварцевой лампы ДРШ-300) с длиной волны 320-380 нм со стороны фотошаблона по всей поверхности в течение времени, оптимальном для воспроизведения геометрических размеров гаптических элементов. Далее фотошаблон отделяют от нижней половинки литьевой формы. Половинку литьевой формы с остатками неотвержденного светочувствительного материала и сформированными на ней гаптическими элементами тщательно промывают в подходящем растворителе, например изопропиловом спирте, и сушат в потоке теплого обеспыленного воздуха до полного удаления следов растворителя. Далее заливают в нее фотоотверждаемый материал по прототипу с образованием верхнего мениска (фиг.3), накладывают верхнюю половинку формы, совмещают центры двух половинок формы по двум координатам в плоскости и плотно сжимают (фиг.6). Далее форму облучают УФ-светом с длиной волны ![]() фиг.1 изображает общий вид литьевой формы в собранном состоянии; фиг.2 – вид на внутреннюю поверхность половинки литьевой формы; фиг.3 – нижняя половинка литьевой формы после заливки композиции; фиг.4 – вид на рабочую поверхность фотошаблона; фиг. 5 – общий вид конструкции, состоящей из нижней половинки формы и прижатого к ней фотошаблона; фиг. 6 – общий вид литьевой формы в собранном состоянии с залитой фотоотверждаемой композицией; фиг. 7 – распределение интенсивности света Е0 в начальный момент экспонирования, где r0 – радиус оптической части; фиг. 8 – распределение интенсивности света Е0 в момент времени, соответствующий полностью освещаемой оптической части, где 1 – нижняя половинка литьевой формы; 2 – верхняя половинка литьевой формы; 3 – кольцевая прокладка фиксированной толщины; 4 – углубление под оптическую часть хрусталика; 5 – светочувствительная композиция для формирования гаптических элементов; 6 – фотошаблон; 7 – прозрачные для УФ-света участки фотошаблона, соответствующие гаптическим элементам хрусталика; 8 – не прозрачные для УФ-света участки фотошаблона; 9 – жидкий фотоотверждаемый материал для формирования оптической части хрусталика. Пример 1. Хрусталик изготавливают в кварцевых литьевых формах, состоящих из двух половинок (фиг.1), технические характеристики которых приведены в табл.1. Нижние половинки форм (1-4 по табл.1) располагают горизонтально так, чтобы углубления под оптическую часть хрусталика находились сверху. На поверхности размещают ограничительные прокладки, выполненные в виде кольца из листового тефлона толщиной 150 мкм. Предварительно подготовленный светочувствиетльный материал состава: 2,2-диметокси-2-фенилацетофенон – 0,34 мас. %, 2,4-дитрет-бутилортохинон – 0,0044 мас. %, олигокарбонатметакрилат – 99,6556 мас. %, с помощью микродозатора объемом 200 мкл заливают на нижнюю половинку формы в образованный кольцевой прокладкой объем с образованием верхнего мениска (фиг.3). Фотошаблон обрабатывают веществом, например природным воском, уменьшающим адгезию к нему полимерного материала. Фотошаблон имеет прозрачные и не прозрачные для УФ-света участки, соответствующие плоскому изображению гаптических элементов хрусталика, проксимальные концы которых при их совмещении с оптической частью половинки литьевой формы входят в нее на 1 мм от ее края (фиг.4). Плотно прижимают фотошаблон к нижней половинке формы (фиг.5). Полученную конструкцию переносят в установку экспонирования и облучают УФ-светом от источника света (ртутно-кварцевой лампы ДРШ-300) с длиной волны 320-380 нм со стороны фотошаблона в течение времени, оптимальном для воспроизведения геометрических размеров гаптических элементов. При мощности источника УФ-излучения 300 Вт/м2 время облучения составляет 2 мин. Далее фотошаблон отделяют от нижней половинки литьевой формы. Половинку литьевой формы с остатками неотвержденного светочувствительного материала и сформированными на ней гаптическими элементами тщательно промывают в подходящем растворителе, например изопропиловом спирте, и сушат в потоке теплого обеспыленного воздуха до полного удаления следов растворителя. Далее заливают в нее фотоотверждаемый материал по прототипу, описанный в патенте РФ 2074673: олигоуретанметакрилат 78,19 мас.%, с количеством оксипропиленовых групп 80; метакриловый эфир метилкарбитола 13,7 мас.%; метакриловая кислота 7,77 мас.%; 2,2-диметокси-2-фениацетофенон 0,34 мас.%, с образованием верхнего мениска (как на фиг.3), накладывают верхнюю половинку формы, совмещают центры двух половинок формы по двум координатам в плоскости и плотно сжимают (фиг.6). Далее форму облучают УФ-светом с длиной волны ![]() Формула изобретения
2,2-диметокси-2-фенилацетофенон 0,34 мас.% строения ![]() 2,4-дитретбутилортохинон 0,0044 мас.% строения ![]() олигокарбонатметакрилат 99,6556 мас.% строения СН2=С(СН3)-С(О)О(СН2)2-О-С(О)-(СН2)2-О-(СН2)2-О-С(О)-О-(СН2)2-О-С(О)-С(СН3)=СН2 с образованием верхнего мениска, накрывают фотошаблоном, обработанным веществом, уменьшающим адгезию к нему полимерного материала, например природным воском, имеющим прозрачные и непрозрачные для УФ-света участки, соответствующие плоскому изображению гаптических элементов хрусталика, проксимальные концы которых при их совмещении с оптической частью половинки литьевой формы входят в нее на 1 мм от ее края, облучают со стороны фотошаблона по всей поверхности от внешнего источника УФ-света с длиной волны 320-380 нм в течение времени, оптимального для воспроизведения заданных геометрических размеров гаптической части хрусталика, отделяют фотошаблон, полностью удаляют незаполимеризованный светочувствительный материал путем проявления в подходящем растворителе, например изопропиловом спирте, и сушат до полного удаления растворителя. РИСУНКИ
MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе
Дата прекращения действия патента: 28.10.2003
Извещение опубликовано: 7.04.2005 БИ: 12/2005
NF4A Восстановление действия патента Российской Федерации на изобретение
Извещение опубликовано: 7.04.2005 БИ: 12/2005
|
||||||||||||||||||||||||||