Патент на изобретение №2197036
|
||||||||||||||||||||||||||
(54) КООРДИНАТНЫЙ ДЕТЕКТОР РЕЛЯТИВИСТСКИХ ЧАСТИЦ
(57) Реферат: Изобретение относится к области атомного приборостроения и микроэлектроники и может быть использовано, в частности, при создании координатных чувствительных детекторов релятивистских частиц, рентгеновского и нейтронного излучения. Технический результат изобретения заключается в увеличении чувствительности, точности, быстродействия и надежности. Сущность: детектор содержит двумерную матрицу полупроводниковых детектирующих элементов – пикселов, которые выполнены в виде биполярных структур с тремя слоями с чередующимся типом проводимости и имеющих низколегированную промежуточную область, которая перекрывается областями пространственного заряда, примыкающих к ней р-n-переходов упомянутой биполярной структуры. Шины, к которым присоединены упомянутые детектирующие элементы, параллельны координатным осям. 6 з.п. ф-лы, 15 ил. Изобретение относится к полупроводниковым детекторам релятивистских частиц, применяемых в области ядерного приборостроения, и может быть, в частности, использовано при создании детекторов релятивистских частиц, нейтронного и рентгеновского излучений. Известны координатно-чувствительные детекторы (КЧД) [1], [2], в которых один из электродов обратно смещенного p-n-перехода со стороны падения потока частиц выполняется в виде резистивного слоя с двумя контактами на его краях. Второй электрод – задний обеспечивает омический контакт к полупроводниковой пластине. Заряд, образованный частицей в p-n-переходе детектора, растекается по контактам, при этом время растекания заряда, то есть время появления сигнала с детектора о попадании частицы, определяется постоянной времени RC – линии с распределенными параметрами, в которой резистивный слой образует активное сопротивление (R), а p-n-переход – емкость (С). Такой детектор не обеспечивает значительного быстродействия (~1 ns) при регистрации, например, -частиц, поскольку постоянная времени RC для детекторов площадью 1 см2 (которые имеют практический интерес) весьма велика (более 1 мкс), а низкая чувствительность обусловлена отсутствием усиления ионизационного тока в p-n-переходных структурах детектора.
Данный недостаток частично устраняется в координатном чувствительном детекторе, в котором в качестве детектирующих элементов используются биполярные транзисторы, эмиттеры которых образуют электроды матрицы, параллельные ортогональным координатам Х и Y [3]. Этот детектор по технической сущности является наиболее близким к заявляемому и выбирается в качестве прототипа.
Детектор-прототип также имеет ограниченные чувствительность и быстродействие (разрешение по определению времени попадания частиц), так как заряд электронно-дырочных пар, собираемый коллекторными p-n-переходами биполярных транзисторов, частично рекомбинирует в квазинейтральной области базы, частично проходит без усиления через паразитные емкости коллекторного p-n–– и эмиттерного n+-p-переходов и соизмерим по величине с уровнем шумов биполярного транзистора.
В настоящем изобретении ставится задача повышения чувствительности и точности полупроводникового координатного детектора. Вторая задача, решаемая в изобретении, заключается в повышении быстродействия. В изобретении дополнительно решается задача повышения надежности при одновременном упрощении его конструкции. Указанные задачи решены в координатном детекторе релятивистских частиц, содержащем двумерную матрицу полупроводниковых детектирующих элементов – пикселов, выполненных в полупроводниковой пластине, шины, к которым присоединены упомянутые детектирующие элементы, параллельные координатным осям, упомянутые детектирующие элементы – пикселы выполнены в виде биполярных структур с тремя слоями с чередующимся типом проводимости, имеющих низколегированную промежуточную область, которая перекрывается областями пространственного заряда, примыкающих к ней p-n-переходов упомянутой биполярной структуры.
Указанные задачи решены также в координатном детекторе релятивистских частиц, содержащем двумерную матрицу полупроводниковых детектирующих элементов – пикселов, выполненных в полупроводниковой пластине, шины, к которым присоединены упомянутые детектирующие элементы, параллельные координатным осям; упомянутые детектирующие элементы – пикселы выполнены в виде двухзатворных полевых транзисторных структур, у которых один из затворов совмещен с подложкой.
Отличие первого варианта координатного детектора заключается в том, что упомянутые детектирующие элементы – пикселы выполнены в виде биполярных структур с тремя слоями с чередующимся типом проводимости, имеющих низколегированную промежуточную область, которая перекрывается областями пространственного заряда, примыкающих к ней p-n-переходов упомянутой биполярной структуры.
Отличие второго варианта координатного детектора заключается в том, что низколегированная промежуточная область биполярной структуры частично перекрывается областями пространственного заряда, примыкающих к ней p-n-переходов упомянутой биполярной структуры.
Отличие третьего варианта координатного детектора заключается в том, что в промежуточной области биполярной структуры расположена дополнительная сильнолегированная область с омическим контактом.
Отличие четвертого варианта координатного детектора заключается в том, что пикселы выполнены в виде двухэмиттерных структур.
Отличие пятого варианта координатного детектора заключается в том, что содержит дополнительно включенную биполярную структуру с тремя слоями с чередующимся типом проводимости, которая совмещена одной крайней областью с крайней областью упомянутой двухполюсной биполярной структуры, а средней областью с другой крайней областью упомянутой двухполюсной структуры.
Отличие шестого варианта координатного детектора заключается в том, что к одной из крайних областей упомянутой биполярной структуры подключен затвор дополнительного МОП-транзистора.
Отличие седьмого варианта координатного детектора заключается в том, что к стоку упомянутого дополнительного МОП-транзистора подключен исток второго дополнительного транзистора, сток и затвор которого соединены с шинами матрицы.
Отличие восьмого варианта координатного детектора заключается в том, что упомянутые детектирующие элементы – пикселы выполнены в виде двухзатворных полевых транзисторных структур, у которых один из затворов совмещен с подложкой.
Отличие девятого варианта координатного детектора заключается в том, что детектирующие элементы выполнены в виде полевых транзисторных структур с вертикальным каналом и истоком, совмещенным с подложкой.
Область базы р(n)-типа с толщиной wb полностью перекрывается областями пространственного заряда эмиттерного (dэ) и коллекторного (Dк) p-n-переходов, т.е. Wб dэ+dк.
С целью повышения надежности и быстродействия работы детектора область базы р(n)-типа со стороной Wб только частично перекрывается областями пространственного заряда эмиттерного и коллекторного p-n переходов, т. е. Wб>dэ+dк.
С целью повышения быстродействия пиксел выполняется транзисторами, для этого область базы содержит дополнительную сильнолегированную квазинейтральнуго р(n)-область, на которой формируется электрод базы.
С целью упрощения детектора и повышения точности определения координат детектирующие элементы – пикселы выполняются 2-эмиттерными.
С целью повышения чувствительности в качестве детектирующих элементов используются функционально-интегрированные структуры из биполярных двухполюсных транзисторных пикселов, у которых объединены области коллекторов, а также эмиттерный и базовый электроды. С целью повышения точности измерения детектора эмиттеры детектирующих элементов подключены к затворам функционально-интегрированных с ними p(n)-канальных полевых транзисторов.
При регистрации релятивистских частиц, приходящих одновременно, эмиттеры детектирующих элементов подключены к затворам функционально-интегрированных с ними n(р)-канальных МОП-транзисторов.
С целью увеличения чувствительности и улучшения соотношения сигнал/шум детектор выполняется слоистым из нескольких матриц пикселов, сигнал с которых суммируется.
Изобретение поясняется приведенными чертежами.
Фиг. 1 – эквивалентная электрическая схема детектирующего элемента матрицы – пиксела двухполюсного согласно изобретению.
Фиг.2 – вид сверху на топологию диодного пиксела согласно изобретению.
Фиг.3 – поперечный разрез конструкции диодного пиксела согласно изобретению.
Фиг.4 – эквивалентная электрическая схема двухполюсного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 5 – вид сверху на структуру двухполюсного пиксела согласно изобретению.
Фиг.6 – поперечный разрез структуры двухполюсного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 7 – эквивалентная электрическая схема триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг.8 – вид сверху структуры триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 9 – поперечный разрез структуры триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг.10 – эквивалентная электрическая схема 2-эмитторного триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 11 – вид сверху структуры 2-эмитторного триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 12 – поперечный разрез структуры 2-эмитторного триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 13 – эквивалентная электрическая схема функционально-интегрированного двухполюсного транзисторного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 14 – вид сверху структуры функционально-интегрированного двухполюсного транзисторного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 15 – поперечный разрез структуры функционально-интегрированного двухполюсного транзисторного пиксела согласно изобретению.
На фиг. 1, 2 и 3 изображен детектирующий элемент двухполюсного пиксела матрицы детектора. Его слаболегированная полупроводниковая подложка – n-типа (1), состоит из квазинейтральной части (2) и области пространственного заряда (3). На обратной стороне подложки (1) расположена n+ – сильнолегированная контактная область (4), имеющая омический контакт с металлическим электродом (5) шины питания Ucc. На внешней стороне подложки расположена слаболегированная область р- или n-типа (6), в которой расположена сильнолегированная область эммитера n+-типа (7) и области пространственного заряда коллектора – dk (8) и эммитера (9), на поверхности области n+-эммитера расположен выходной электрод (10). Структура пиксела частично изолирована от подложки (1) диэлектриком (11).
На фиг. 4, 5 и 6 изображен пиксел, в котором область базы (6) содержит квазинейтральную область р-типа (12).
На фиг. 7, 8 и 9 изображен транзисторный пиксел, содержащий сильнолегированную область р+-типа (13) с расположенным на ней базовым электродом (14).
На фиг. 10, 11 и 12 изображен транзисторный 2-эммитерный пиксел, содержащий дополнительный n+-эммитер (15) и электрод к нему (16).
На фиг.13, 14 и 15 изображен детектирующий элемент, представляющий собой функционально-интегрированную структуру двухполюсных транзисторных пикселов, имеющих общую область пространственного заряда (3) в подложке (1).
Координатный детектор релятивистских частиц работает следующим образом.
При подключении напряжения питания (Ucc) к детектору и попадании релятивистской частицы в двухполюсный пиксел детектора в его полупроводниковом материале генерируются электронно-дырочные пары. Они в основном собираются в области пространственного заряда (dk) слаболегированного коллекторного p-n-перехода структуры (см. фиг.3), величина которой много больше топологической ширины р–-базы, т. е. Dk>>Wb, и образуют первичный ионизационный ток Iион.
Важным является обстоятельство, что при подаче достаточно высокого импульсного напряжения питания Ucc происходит смыкание областей пространственного заряда коллекторного и эммитерного p-n-переходов (П1 изобретения). Это приводит к полному удалению подвижных дырок из р-области базы (см. фиг.1-3) аналогично, как это происходит в приборах с зарядовой связью [4]. Таким образом, области базы структуры превращаются в потенциальную яму для дырок. При этом достигается высокий коэффициент усиления в схеме с общей базой и общим эммитером![]() т. к. коэффициент переноса тока в базе т становится близким к единице вследствие равенства нулю ширины квазинейтральной части базы (Wb.k=0) [4], т.е.
![]() 1/(1+ Dp Nb Wb/Dn Ne We) при Wb и We << Ln и Lp,где Lp – диффузионная длина для дырок; Ln – диффузионная длина для электронов; – коэффициент эффективности эммитера;Ne – концентрация донорной примеси в эммитере; тогда 0 Ne/Nb-1;Nb – концентрация акцепторной в базе; Wb – технологическая толщина базы. Отсюда выходной ток диодного пиксела – ток эммитера Ie равен Ie = Iион Ne/Nb Wb.
Однако тепловая генерация дырок в области базы и коллектора приводит к постепенному их накоплению в потенциальной яме области базы и коллектора при отсутствии электронно-дырочных пар, вызванных взаимодействием с релятивистской частицей, что требует периодической регенерации базы ( 10 мкс).
Менее эффективным по усилению, но более простым и стабильным по разбросу 0 представляется режим работы диодного пиксела при наличии квазинейтральной части Wb.k. в области базы (см. П2 и фиг.4, 5, 6). В этом случае коэффициент усиления 0![]() т. При этом в диодных пикселах объем (ширина и толщина) и концентрация примеси Nb выполняются весьма малыми, так что выполняется соотношение: р=n>Nb.
Это приводит к высокому соотношению сигнал/шум и уменьшает влияние паразитных диффузионной и барьерной емкостей. Следует отметить, что диодные пикселы представляют собой функциональный элемент, в котором интегрируется биполярная инжекционная усилительная n-p-n-структура с потенциальной ямой в области базы.
Если поток радиационных частиц весьма интенсивен ( -частиц V>107 /с), целесообразно использовать транзисторную структуру (см. фиг.7, 8, 9), в которой базовый электрод подсоединяется к фиксированному потенциалу.
Детектирующие элементы – двухполюсные и транзисторные пикселы могут быть выполнены 2- или 3-эмиттерными (см. фиг.10, 11, 12), что позволяет использовать только одну пластину для определения двух координат и повысить точность их определения (см. фиг.10, 11, 12).
Чувствительность детектора может быть существенно повышена за счет функциональной интеграции последовательно включенных двухполюсного и транзисторного пикселов, имеющих общую область сбора носителей заряда в коллекторе (см. фиг.13, 14, 15). В этом случае общий коэффициент усиления по току равен произведению их коэффициентов усиления.
К сожалению, регистрация одновременно приходящих частиц детекторами, реализованными на основе изобретений, представленных ранее, невозможна. Однако решением данной задачи является функциональная интеграция двухполюсного или транзисторного пикселов с МОП-транзистором, затворная емкость которого выполняет функции элемента памяти конденсаторного типа. В этом случае усиленные пикселами ионизационные токи, создаваемые одновременно с прохождением релятивистских частиц, заряжают соответствующие затворные МОП-конденсаторы, которые хранят заряд в течение времени, достаточного для их последовательного считывания. Например, это можно осуществить с помощью дополнительно введенного МОП-транзистора для 2-координатного способа. Следует отметить, что МОП-транзисторы могут быть полностью диэлектрически изолированными от полупроводниковой подложки.
Чувствительность детектора при регистрации нейтронного излучения может быть увеличена путем нанесения на поверхность детектора водородосодержащих (органических) и люминесцентных соединений. Взаимодействие с водородосодержащими соединениями нейтронного излучения издает регистрируемые детектором протоны отдачи, а взаимодействие рентгеновского излучения с люминесцентными материалами создает в пикселах детектора потоки световых квантов, генерирующих ионизационные токи.
Пример практической реализации.
Прохождение релятивистской частицы через полупроводниковую структуру пиксела детектора вызывает генерацию (~104) электронно-дырочных пар на длине пробега в кремнии LSi=100 мкм [5]. Задаваясь напряжением обратного смещения коллекторного перехода Ucc=100 В и величиной области пространственного заряда в коллекторе с dк=100 мкм, можно получить из выражения![]() где 0 и Si – диэлектрические постоянные вакуума и кремния; K – контактная разность потенциалов;q – заряд электрона; значение NВ= 1013 см-3, соответствующее удельному сопротивлению кремния Si~ 300 Ом см, который широко применяется в настоящее время в промышленности.
Амплитуда дрейфовой составляющей ионизационного тока может быть определена из выражения![]() где nОПЗ nг = 104 – число электронов, генерируемых в области dк;tпр – время пролета электронов через область dк; учитывая, что скорость дрейфа др = E![]() e = B/см<где ![]() нас=0,6 107 см/с – скорость насыщения электронов;![]() Амплитуда диффузионной составляющей ионизационного тока Iдиф весьма мала и ей можно пренебречь. ![]() где Ln, Dn – диффузионная длина и коэффициент диффузии для электронов; nКНО – число электронов, генерируемых в квазинейтральной области кремния на длине LKHO; Учитывая, что величина собственного генерационного тока Iген в области пространственного заряда равна ![]() где ni – концентрация электронов в кремнии с собственной проводимостью; 0 – время жизни электронов;Wк = объем области пространственного заряда толщиной dк. Величиной теплового тока можно пренебречь, т.к. ![]() Задаваясь характерными размерами площадей эмиттерного и коллекторного p-n-переходов, легко реализуемыми практически, Ар-n=3 мкм 3 мкм, имеем величину барьерной емкости эмиттерного перехода![]() ![]() и его диффузионной емкости ![]() где Uбэ – напряжение на переходе база-эмиттер, близко к нулю; Т – абсолютная температура; k – постоянная Больцмана. Таким образом, перепад напряжения Uдр на барьерной емкости от Iдр![]() Учитывая, что коэффициент усиления тока базы в схеме с общим коллектором 0 100 для транзисторных структур с глубиной эмиттерного (xэ=0,5 мкм) и коллекторного (xк=1,0 мкм) переходов имеем ток эмиттера для пикселаIэ = ( 0+1) Iдр 0,1 10-6 A.Учитывая соотношения для среднеквадратичного шумового тока коллектора ![]() где Iш = Iген; f – ширина полосы частот, в которой измеряется шум;имеем а соотношение сигнал/шум не хуже![]() Таким образом, из теоретических расчетов следует, что данный детектор обеспечивает надежное детектирование релятивистских частиц. Подтверждением перспективности данного детектора служат экспериментальные результаты, которые были получены на макетных образцах детектора при детектировании -частиц, которые опубликованы в [6].
Важно отметить, что быстродействие детектора обусловлено высоким уровнем тока (мощности) выходного сигнала и возможностью его локального усиления в пределах пиксела при использовании функционально-интегрированных элементов, описанных в П5. В этом случае время выборки информации с детектора площадью 100 100 мкм2 не превышает 20 нс.
Область базы р(n)-типа с толщиной Wb полностью перекрывается областями пространственного заряда эмиттерного (dэ) и коллекторного (dк) p-n-переходов, т.е. Wб dэ+dк.
С целью повышения надежности и быстродействия работы детектора область базы р(n)-типа со стороной Wб только частично перекрывается областями пространственного заряда эмиттерного и коллекторного p-n-переходов, т. е. Wб>dэ+dк.
С целью повышения быстродействия пиксел выполняется транзисторами, для этого область базы содержит дополнительную сильнолегированную квазинейтральную р(n)-область, на которой формируется электрод базы.
С целью упрощения детектора и повышения точности определения координат детектирующие элементы – пикселы выполняются 2-эмиттерными.
С целью повышения чувствительности в качестве детектирующих элементов используются функционально-интегрированные структуры из биполярных двухполюсных транзисторных пикселов, у которых объединены области коллекторов, а также эмиттерный и базовый электроды. С целью повышения точности измерения детектора эмиттеры детектирующих элементов подключены к затворам функционально-интегрированных с ними p(n)-канальных полевых транзисторов.
При регистрации релятивистских частиц, приходящих одновременно, эмиттеры детектирующих элементов подключены к затворам функционально-интегрированных с ними n(p)-канальных МОП-транзисторов.
С целью увеличения чувствительности и улучшения соотношения сигнал/шум детектор выполняется слоистым из нескольких матриц пикселов, сигнал с которых суммируется. Далее изобретение поясняется приведенными чертежами.
ЛИТЕРАТУРА
2. Горн Л.С., Хазанов Б.И. Современные приборы для измерения ионизирующих излучений. М.: Энергоатомиздат, 1989 г., стр. 85-87.
3. Мелешко Е.А., Мурашов В.Н., Павлов Д.В., Тарабрин Ю.А., Яковлев Г.В. Координатно-чувствительный детектор. Патент на изобретение 2133524 от 20 июля 1999 г. Российская федерация.
4. С.Зи. Физика полупроводниковых приборов. М.: Мир, 1984 г., т.1, стр. 150-155, 429-430.
5. Аваев Н.А., Наумов Ю.Е. Элементы сверхбольших интегральных схем. М.: Радио и связь, 1986 г., стр. 68-72.
6. A. L. Klimov, V.N. Murachev, D.V. Pavlov, V.A. Tarabrin, G.V. Yakovlev. Application of semiconductor detectors in nuclear phusical problems, Riga, Latvia, May 18-22, 1988 г. The prospect of Alfa-particles detection by bipolar matrix devices.
Формула изобретения
РИСУНКИ
MM4A Досрочное прекращение действия патента Российской Федерации на изобретение из-за неуплаты в установленный срок пошлины за поддержание патента в силе
Дата прекращения действия патента: 14.09.2004
Извещение опубликовано: 10.03.2006 БИ: 07/2006
NF4A Восстановление действия патента СССР или патента Российской Федерации на изобретение
Извещение опубликовано: 10.02.2007 БИ: 04/2007
|
||||||||||||||||||||||||||

-частиц, поскольку постоянная времени RC для детекторов площадью 1 см2 (которые имеют практический интерес) весьма велика (более 1 мкс), а низкая чувствительность обусловлена отсутствием усиления ионизационного тока в p-n-переходных структурах детектора.
Данный недостаток частично устраняется в координатном чувствительном детекторе, в котором в качестве детектирующих элементов используются биполярные транзисторы, эмиттеры которых образуют электроды матрицы, параллельные ортогональным координатам Х и Y [3]. Этот детектор по технической сущности является наиболее близким к заявляемому и выбирается в качестве прототипа.
Детектор-прототип также имеет ограниченные чувствительность и быстродействие (разрешение по определению времени попадания частиц), так как заряд электронно-дырочных пар, собираемый коллекторными p-n-переходами биполярных транзисторов, частично рекомбинирует в квазинейтральной области базы, частично проходит без усиления через паразитные емкости коллекторного p-n–– и эмиттерного n+-p-переходов и соизмерим по величине с уровнем шумов биполярного транзистора.
В настоящем изобретении ставится задача повышения чувствительности и точности полупроводникового координатного детектора. Вторая задача, решаемая в изобретении, заключается в повышении быстродействия. В изобретении дополнительно решается задача повышения надежности при одновременном упрощении его конструкции. Указанные задачи решены в координатном детекторе релятивистских частиц, содержащем двумерную матрицу полупроводниковых детектирующих элементов – пикселов, выполненных в полупроводниковой пластине, шины, к которым присоединены упомянутые детектирующие элементы, параллельные координатным осям, упомянутые детектирующие элементы – пикселы выполнены в виде биполярных структур с тремя слоями с чередующимся типом проводимости, имеющих низколегированную промежуточную область, которая перекрывается областями пространственного заряда, примыкающих к ней p-n-переходов упомянутой биполярной структуры.
Указанные задачи решены также в координатном детекторе релятивистских частиц, содержащем двумерную матрицу полупроводниковых детектирующих элементов – пикселов, выполненных в полупроводниковой пластине, шины, к которым присоединены упомянутые детектирующие элементы, параллельные координатным осям; упомянутые детектирующие элементы – пикселы выполнены в виде двухзатворных полевых транзисторных структур, у которых один из затворов совмещен с подложкой.
Отличие первого варианта координатного детектора заключается в том, что упомянутые детектирующие элементы – пикселы выполнены в виде биполярных структур с тремя слоями с чередующимся типом проводимости, имеющих низколегированную промежуточную область, которая перекрывается областями пространственного заряда, примыкающих к ней p-n-переходов упомянутой биполярной структуры.
Отличие второго варианта координатного детектора заключается в том, что низколегированная промежуточная область биполярной структуры частично перекрывается областями пространственного заряда, примыкающих к ней p-n-переходов упомянутой биполярной структуры.
Отличие третьего варианта координатного детектора заключается в том, что в промежуточной области биполярной структуры расположена дополнительная сильнолегированная область с омическим контактом.
Отличие четвертого варианта координатного детектора заключается в том, что пикселы выполнены в виде двухэмиттерных структур.
Отличие пятого варианта координатного детектора заключается в том, что содержит дополнительно включенную биполярную структуру с тремя слоями с чередующимся типом проводимости, которая совмещена одной крайней областью с крайней областью упомянутой двухполюсной биполярной структуры, а средней областью с другой крайней областью упомянутой двухполюсной структуры.
Отличие шестого варианта координатного детектора заключается в том, что к одной из крайних областей упомянутой биполярной структуры подключен затвор дополнительного МОП-транзистора.
Отличие седьмого варианта координатного детектора заключается в том, что к стоку упомянутого дополнительного МОП-транзистора подключен исток второго дополнительного транзистора, сток и затвор которого соединены с шинами матрицы.
Отличие восьмого варианта координатного детектора заключается в том, что упомянутые детектирующие элементы – пикселы выполнены в виде двухзатворных полевых транзисторных структур, у которых один из затворов совмещен с подложкой.
Отличие девятого варианта координатного детектора заключается в том, что детектирующие элементы выполнены в виде полевых транзисторных структур с вертикальным каналом и истоком, совмещенным с подложкой.
Область базы р(n)-типа с толщиной wb полностью перекрывается областями пространственного заряда эмиттерного (dэ) и коллекторного (Dк) p-n-переходов, т.е. Wб
dэ+dк.
С целью повышения надежности и быстродействия работы детектора область базы р(n)-типа со стороной Wб только частично перекрывается областями пространственного заряда эмиттерного и коллекторного p-n переходов, т. е. Wб>dэ+dк.
С целью повышения быстродействия пиксел выполняется транзисторами, для этого область базы содержит дополнительную сильнолегированную квазинейтральнуго р(n)-область, на которой формируется электрод базы.
С целью упрощения детектора и повышения точности определения координат детектирующие элементы – пикселы выполняются 2-эмиттерными.
С целью повышения чувствительности в качестве детектирующих элементов используются функционально-интегрированные структуры из биполярных двухполюсных транзисторных пикселов, у которых объединены области коллекторов, а также эмиттерный и базовый электроды. С целью повышения точности измерения детектора эмиттеры детектирующих элементов подключены к затворам функционально-интегрированных с ними p(n)-канальных полевых транзисторов.
При регистрации релятивистских частиц, приходящих одновременно, эмиттеры детектирующих элементов подключены к затворам функционально-интегрированных с ними n(р)-канальных МОП-транзисторов.
С целью увеличения чувствительности и улучшения соотношения сигнал/шум детектор выполняется слоистым из нескольких матриц пикселов, сигнал с которых суммируется.
Изобретение поясняется приведенными чертежами.
Фиг. 1 – эквивалентная электрическая схема детектирующего элемента матрицы – пиксела двухполюсного согласно изобретению.
Фиг.2 – вид сверху на топологию диодного пиксела согласно изобретению.
Фиг.3 – поперечный разрез конструкции диодного пиксела согласно изобретению.
Фиг.4 – эквивалентная электрическая схема двухполюсного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 5 – вид сверху на структуру двухполюсного пиксела согласно изобретению.
Фиг.6 – поперечный разрез структуры двухполюсного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 7 – эквивалентная электрическая схема триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг.8 – вид сверху структуры триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 9 – поперечный разрез структуры триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг.10 – эквивалентная электрическая схема 2-эмитторного триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 11 – вид сверху структуры 2-эмитторного триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 12 – поперечный разрез структуры 2-эмитторного триодного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 13 – эквивалентная электрическая схема функционально-интегрированного двухполюсного транзисторного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 14 – вид сверху структуры функционально-интегрированного двухполюсного транзисторного пиксела согласно изобретению.
Фиг. 15 – поперечный разрез структуры функционально-интегрированного двухполюсного транзисторного пиксела согласно изобретению.
На фиг. 1, 2 и 3 изображен детектирующий элемент двухполюсного пиксела матрицы детектора. Его слаболегированная полупроводниковая подложка – n-типа (1), состоит из квазинейтральной части (2) и области пространственного заряда (3). На обратной стороне подложки (1) расположена n+ – сильнолегированная контактная область (4), имеющая омический контакт с металлическим электродом (5) шины питания Ucc. На внешней стороне подложки расположена слаболегированная область р- или n-типа (6), в которой расположена сильнолегированная область эммитера n+-типа (7) и области пространственного заряда коллектора – dk (8) и эммитера (9), на поверхности области n+-эммитера расположен выходной электрод (10). Структура пиксела частично изолирована от подложки (1) диэлектриком (11).
На фиг. 4, 5 и 6 изображен пиксел, в котором область базы (6) содержит квазинейтральную область р-типа (12).
На фиг. 7, 8 и 9 изображен транзисторный пиксел, содержащий сильнолегированную область р+-типа (13) с расположенным на ней базовым электродом (14).
На фиг. 10, 11 и 12 изображен транзисторный 2-эммитерный пиксел, содержащий дополнительный n+-эммитер (15) и электрод к нему (16).
На фиг.13, 14 и 15 изображен детектирующий элемент, представляющий собой функционально-интегрированную структуру двухполюсных транзисторных пикселов, имеющих общую область пространственного заряда (3) в подложке (1).
Координатный детектор релятивистских частиц работает следующим образом.
При подключении напряжения питания (Ucc) к детектору и попадании релятивистской частицы в двухполюсный пиксел детектора в его полупроводниковом материале генерируются электронно-дырочные пары. Они в основном собираются в области пространственного заряда (dk) слаболегированного коллекторного p-n-перехода структуры (см. фиг.3), величина которой много больше топологической ширины р–-базы, т. е. Dk>>Wb, и образуют первичный ионизационный ток Iион.
Важным является обстоятельство, что при подаче достаточно высокого импульсного напряжения питания Ucc происходит смыкание областей пространственного заряда коллекторного и эммитерного p-n-переходов (П1 изобретения). Это приводит к полному удалению подвижных дырок из р-области базы (см. фиг.1-3) аналогично, как это происходит в приборах с зарядовой связью [4]. Таким образом, области базы структуры превращаются в потенциальную яму для дырок. При этом достигается высокий коэффициент усиления в схеме с общей базой 

1/(1+ Dp
Nb
0
0 и
K – контактная разность потенциалов;
Si~ 300 Ом
др = E
e = B/см<



0 – время жизни электронов;



Uдр на барьерной емкости от Iдр
100 для транзисторных структур с глубиной эмиттерного (xэ=0,5 мкм) и коллекторного (xк=1,0 мкм) переходов имеем ток эмиттера для пиксела
а соотношение сигнал/шум не хуже