| Название инновационного проекта: |
Зондовый способ формирования наноэлементов среде заряженных частиц |
| Область применения: | Биология, медицина |
| Аннотация: | 1. Зондовый способ формирования наноэлементов в среде заряженных частиц, включающий получение на подложке проводящего слоя, размещение ее в камере, создание разности потенциалов между зондом и проводящим слоем, подведение зонда к проводящему слою, возникновение между зондом и проводящим слоем потока заряженных частиц и формирование на поверхности проводящего слоя наноэлементов, отличающийся тем, что подложку с проводящим слоем размещают в вакуумной камере и перед созданием разности потенциалов между зондом и проводящим слоем создают разрежение, после чего в области зонда над поверхностью подложки формируют плазму, а на зонд и проводящий слой подают потенциалы, управляя при этом процессом взаимодействия плазмы с зондом и проводящим слоем, после чего удаляют продукты реакции из области между зондом и проводящим слоем и формируют в этой области зону заряженных частиц. 2. Зондовый способ формирования наноэлементов в среде заряженных частиц по п.1, отличающийся тем, что удаление продуктов реакции в области между зондом и проводящим слоем осуществляют подачей инертного газа. 3. Зондовый способ формирования наноэлементов в среде заряженных частиц по пп.1 и 2, отличающийся тем, что зону заряженных частиц формируют путем подачи электролита. 4. Зондовый способ формирования наноэлементов в среде заряженных частиц по п.1, отличающийся тем, что зону заряженных частиц формируют путем подачи плазмы. 5. Зондовый способ формирования наноэлементов в среде заряженных частиц по п.1, отличающийся тем, что зону заряженных частиц формируют, используя ионный источник. 6. Зондовый способ формирования наноэлементов в среде заряженных частиц по п.1, отличающийся тем, что зону заряженных частиц формируют, используя источник электронов. 7. Зондовый способ формирования наноэлементов в среде заряженных частиц по п.1, отличающийся тем, что зону заряженных частиц формируют путем подачи газа и его ионизации. |
| Объект интеллектуальной собственности: | изобретение |
| Автор/разработчик: | Быков Виктор Александрович, Гаврилов Сергей Александрович, Полторацкий Эдуард Алексеевич,Редченко Владимир Викторович,Рощин Владимир Михайлович,Соколов Дмитрий Юрьевич,Медведев Борис Константинович,Божко Сергей Иванович |
| Стадия освоения разработки: | мелкосерийное производство |
| Формы сотрудничества: | совместное производство |
| Название предприятия: | “НТ-МДТ”, ЗАО |
| Статус: | юридическое лицо |
| Адрес: | 124460, Москва, Зеленоград, Корпус 167, ЗАО «НТ-МДТ» |
| Телефон: | +7 (495) 535-03-05, 535-83-69 |
| Факс: | +7 (495) 535-64-10 |
| E-mail: | secretary@ntmdt.ru |
| Адрес Web: | www.ntmdt.ru |
| ФИО руководителя предприятия: | Быков Виктор Александрович |
| Регион: | Москва, Зеленоградский округ |
№436 Зондовый способ формирования наноэлементов среде заряженных частиц
Categories: IN_18