|
(21), (22) Заявка: 2007121704/28, 09.11.2005
(24) Дата начала отсчета срока действия патента:
09.11.2005
(30) Конвенционный приоритет:
10.11.2004 JP 2004-326687
(43) Дата публикации заявки: 20.12.2008
(46) Опубликовано: 10.10.2009
(56) Список документов, цитированных в отчете о поиске:
US 2003/218222 A1, 27.11.2003. JP 2000044236 A, 15.02.2000. J.R.BILLINGHAM et all, Electrical and optical properties of amorfous indium oxide. J. Phys. Condens. Matter. Vol.2, 1990, p.6207-6221. RU 2069417 C1, 20.11.1996. RU 2189665 C2, 20.09.2002.
(85) Дата перевода заявки PCT на национальную фазу:
13.06.2007
(86) Заявка PCT:
JP 2005/020980 20051109
(87) Публикация PCT:
WO 2006/051993 20060518
Адрес для переписки:
129090, Москва, ул.Б.Спасская, 25, стр. 3, ООО “Юридическая фирма Городисский и Партнеры”, пат.пов. Ю.Д. Кузнецову, рег. 595
|
(72) Автор(ы):
САНО Масафуми (JP), НАКАГАВА Кацуми (JP), ХОСОНО Хидео (JP), КАМИЯ Тосио (JP), НОМУРА Кендзи (JP)
(73) Патентообладатель(и):
КЭНОН КАБУСИКИ КАЙСЯ (JP), ТОКИО ИНСТИТЬЮТ ОФ ТЕКНОЛОДЖИ (JP)
|
(54) АМОРФНЫЙ ОКСИД И ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР С ЕГО ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ
(57) Реферат:
Изобретение относится к аморфному оксиду, применяемому в активном слое полевого транзистора. Сущность изобретения: аморфный оксид, содержащий по меньшей мере один микрокристалл и имеющий концентрацию электронных носителей в пределах от 1012/см3 до 1018/см3, содержит, по меньшей мере, один элемент, выбранный из группы, состоящей из In, Zn и Sn, и граница раздела зерен упомянутого по меньшей мере одного микрокристалла покрыта аморфной структурой. Техническим результатом изобретения является получение аморфного оксида, который функционирует как полупроводник для использования его в активном слое тонкопленочного транзистора. 2 н. и 4 з.п. ф-лы, 8 ил.
Текст описания приведен в факсимильном виде.                                                                            
Формула изобретения
1. Аморфный оксид, содержащий по меньшей мере один микрокристалл и имеющий концентрацию электронных носителей в пределах от 1012/см3 до 1018/см3, причем упомянутый аморфный оксид содержит, по меньшей мере, один элемент, выбранный из группы, состоящей из In, Zn и Sn, и граница раздела зерен упомянутого по меньшей мере одного микрокристалла покрыта аморфной структурой.
2. Аморфный оксид по п.1, в котором аморфный оксид выбирают из группы, состоящей из: оксида, содержащего In, Zn и Sn; оксида, содержащего In и Zn; оксида, содержащего In и Sn; и оксида, содержащего In.
3. Аморфный оксид по п.1, содержащий In, Ga и Zn.
4. Аморфный оксид по п.1, в котором подвижность электронов увеличивается с увеличением концентрации электронных носителей.
5. Полевой транзистор, содержащий активный слой из аморфного оксида, содержащего по меньшей мере один микрокристалл и электрод затвора, сформированный таким образом, что он обращен к активному слою через изолятор затвора, причем упомянутый аморфный оксид содержит, по меньшей мере, один элемент, выбранный из группы, состоящей из In, Zn и Sn, и граница раздела зерен упомянутого по меньшей мере одного микрокристалла покрыта аморфной структурой.
6. Полевой транзистор по п.5, причем транзистор представляет собой транзистор нормально выключенного типа.
РИСУНКИ
|
|