Патент на изобретение №2369940

Published by on




РОССИЙСКАЯ ФЕДЕРАЦИЯ



ФЕДЕРАЛЬНАЯ СЛУЖБА
ПО ИНТЕЛЛЕКТУАЛЬНОЙ СОБСТВЕННОСТИ,
ПАТЕНТАМ И ТОВАРНЫМ ЗНАКАМ
(19) RU (11) 2369940 (13) C2
(51) МПК

H01L29/786 (2006.01)

(12) ОПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К ПАТЕНТУ

Статус: по данным на 18.08.2010 – действует

(21), (22) Заявка: 2007121704/28, 09.11.2005

(24) Дата начала отсчета срока действия патента:

09.11.2005

(30) Конвенционный приоритет:

10.11.2004 JP 2004-326687

(43) Дата публикации заявки: 20.12.2008

(46) Опубликовано: 10.10.2009

(56) Список документов, цитированных в отчете о
поиске:
US 2003/218222 A1, 27.11.2003. JP 2000044236 A, 15.02.2000. J.R.BILLINGHAM et all, Electrical and optical properties of amorfous indium oxide. J. Phys. Condens. Matter. Vol.2, 1990, p.6207-6221. RU 2069417 C1, 20.11.1996. RU 2189665 C2, 20.09.2002.

(85) Дата перевода заявки PCT на национальную фазу:

13.06.2007

(86) Заявка PCT:

JP 2005/020980 20051109

(87) Публикация PCT:

WO 2006/051993 20060518

Адрес для переписки:

129090, Москва, ул.Б.Спасская, 25, стр. 3, ООО “Юридическая фирма Городисский и Партнеры”, пат.пов. Ю.Д. Кузнецову, рег.595

(72) Автор(ы):

САНО Масафуми (JP),
НАКАГАВА Кацуми (JP),
ХОСОНО Хидео (JP),
КАМИЯ Тосио (JP),
НОМУРА Кендзи (JP)

(73) Патентообладатель(и):

КЭНОН КАБУСИКИ КАЙСЯ (JP),
ТОКИО ИНСТИТЬЮТ ОФ ТЕКНОЛОДЖИ (JP)

(54) АМОРФНЫЙ ОКСИД И ПОЛЕВОЙ ТРАНЗИСТОР С ЕГО ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ

(57) Реферат:

Изобретение относится к аморфному оксиду, применяемому в активном слое полевого транзистора. Сущность изобретения: аморфный оксид, содержащий по меньшей мере один микрокристалл и имеющий концентрацию электронных носителей в пределах от 1012/см3 до 1018/см3, содержит, по меньшей мере, один элемент, выбранный из группы, состоящей из In, Zn и Sn, и граница раздела зерен упомянутого по меньшей мере одного микрокристалла покрыта аморфной структурой. Техническим результатом изобретения является получение аморфного оксида, который функционирует как полупроводник для использования его в активном слое тонкопленочного транзистора. 2 н. и 4 з.п. ф-лы, 8 ил.

Текст описания приведен в факсимильном виде.

Формула изобретения

1. Аморфный оксид, содержащий по меньшей мере один микрокристалл и имеющий концентрацию электронных носителей в пределах от 1012/см3 до 1018/см3, причем упомянутый аморфный оксид содержит, по меньшей мере, один элемент, выбранный из группы, состоящей из In, Zn и Sn, и граница раздела зерен упомянутого по меньшей мере одного микрокристалла покрыта аморфной структурой.

2. Аморфный оксид по п.1, в котором аморфный оксид выбирают из группы, состоящей из: оксида, содержащего In, Zn и Sn; оксида, содержащего In и Zn; оксида, содержащего In и Sn; и оксида, содержащего In.

3. Аморфный оксид по п.1, содержащий In, Ga и Zn.

4. Аморфный оксид по п.1, в котором подвижность электронов увеличивается с увеличением концентрации электронных носителей.

5. Полевой транзистор, содержащий активный слой из аморфного оксида, содержащего по меньшей мере один микрокристалл и электрод затвора, сформированный таким образом, что он обращен к активному слою через изолятор затвора, причем упомянутый аморфный оксид содержит, по меньшей мере, один элемент, выбранный из группы, состоящей из In, Zn и Sn, и граница раздела зерен упомянутого по меньшей мере одного микрокристалла покрыта аморфной структурой.

6. Полевой транзистор по п.5, причем транзистор представляет собой транзистор нормально выключенного типа.

РИСУНКИ

Categories: BD_2369000-2369999